ESG / 정밀세정에서 강력세척까지, 정밀건식 세정기 전문기업

정밀건식 세정기 전문기업 이에스지   반도체 공정 샤워헤드의 역할과 기능 1. 균일한 가스 분사: 1)반도체 제조 공정에서는 균일한  가스 분사가 매우 중요합니다. 2)샤워헤드는 공정 가스를 균일하게 웨이퍼  표면에 분사하여 박막 증착 등의 공정을  원활하게 진행할 수 있게 해줍니다. ​ 2. 오염물 제거 1)샤워헤드 표면에 오염물이 쌓이면 가스  분사가 불균일해져 공정 수율이 떨어집니다.  2)따라서 샤워헤드의 주기적인 세정이 필요합니다.  ​ 반도체 제조 공정과 샤워헤드의 중요성반도체 제조  공정에서 샤워헤드는 매우 중요한 역할을 합니다.  가스 분사 균일성이 떨어지면 박막 증착, 식각 등의  공정에 문제가 발생하여 수율 저하로 이어질 수 있습니다.  따라서 샤워헤드 설계와 관리가 반도체 제조의 핵심..

카테고리 없음 2025. 1. 7. 10:22

정밀건식세정 전문기업 이에스지   반도체 공정 샤워헤드의 역할과 기능 1. 균일한 가스 분사 - 반도체 제조 공정에서는 균일한  가스 분사가 매우 중요합니다. - 샤워헤드는 공정 가스를 균일하게 웨이퍼  표면에 분사하여 박막 증착 등의 공정을  원활하게 진행할 수 있게 해줍니다. ​ 2. 오염물 제거 - 샤워헤드 표면에 오염물이 쌓이면 가스  분사가 불균일해져 공정 수율이 떨어집니다.  - 따라서 샤워헤드의 주기적인 세정이 필요합니다.  ​ 반도체 제조 공정과 샤워헤드의 중요성반도체 제조  공정에서 샤워헤드는 매우 중요한 역할을 합니다. 가스  분사 균일성이 떨어지면 박막 증착, 식각 등의 공정에  문제가 발생하여 수율 저하로 이어질 수 있습니다.  따라서 샤워헤드 설계와 관리가 반도체 제조의 핵심 기술..

카테고리 없음 2024. 7. 31. 17:08

정밀건식 세정 전문기업 이에스지  반도체 샤워헤드의 역할과 기능 1. 균일한 가스 분사 ​ - 반도체 제조 공정에서는 균일한  가스 분사가 매우 중요합니다. - 샤워헤드는 공정 가스를 균일하게 웨이퍼  표면에 분사하여 박막 증착 등의 공정을  원활하게 진행할 수 있게 합니다. ​ 2. 오염물 제거 - 샤워헤드 표면에 오염물이 쌓이면 가스  분사가 불균일해져 공정 수율이 저하됩니다 - 따라서 샤워헤드의 주기적인 세정이 필요합니다.  ​3. 재질 선택 - 샤워헤드 재질로는 알루미늄, SiC  코팅 세라믹 등이 사용됩니다. - 재질에 따라 내구성, 내식성, 오염 방지  등의 특성이 달라집니다. ​ 4. 구조 개선 - 이중 구조 샤워헤드 등 새로운 설계로 가스 분사  균일성을 높이는 기술이 개발되고 있습니다. ..

카테고리 없음 2024. 5. 23. 17:13