샤워헤드세정, 웨이퍼척세정, 흡입척홀세정, 진공척세정, 반도체장비홀세정
정밀건식 세정 전문기업 이에스지 반도체 샤워헤드의 역할과 기능 1. 균일한 가스 분사 - 반도체 제조 공정에서는 균일한 가스 분사가 매우 중요합니다. - 샤워헤드는 공정 가스를 균일하게 웨이퍼 표면에 분사하여 박막 증착 등의 공정을 원활하게 진행할 수 있게 합니다. 2. 오염물 제거 - 샤워헤드 표면에 오염물이 쌓이면 가스 분사가 불균일해져 공정 수율이 저하됩니다 - 따라서 샤워헤드의 주기적인 세정이 필요합니다. 3. 재질 선택 - 샤워헤드 재질로는 알루미늄, SiC 코팅 세라믹 등이 사용됩니다. - 재질에 따라 내구성, 내식성, 오염 방지 등의 특성이 달라집니다. 4. 구조 개선 - 이중 구조 샤워헤드 등 새로운 설계로 가스 분사 균일성을 높이는 기술이 개발되고 있습니다. ..
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2024. 5. 23. 17:13
