반도체세정, 반도체 후공정 세정, 정밀건식 세정기술, ESG 정밀건식 세정기
정밀 건식세정기술은 CO2 입자를 사용하여 제품에 붙어있는 미세한 이물질이나 잔여물을 제거하는 기술입니다. 이 기술은 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 하는데, 고도의 청결도와 정밀성이 요구되기 때문입니다. 필름 세정 기존의 습식세정 방식은 부품 손상, 제한적인 적용 범위, 환경 문제, 긴 제조 공정 등의 단점이 있었습니다. 하지만 정밀 건식세정기술은 이러한 문제점을 해결할 수 있으며, 제품의 품질 향상과 수율 개선에 기여할 수 있습니다. 따라서 반도체 제조 공정에서 정밀 건식세정기술은 필수적인 요소라고 할 수 있습니다. 이 기술을 통해 반도체 제품의 품질과 생산성을 크게 향상시킬 수 있기 때문입니다. 웨이퍼 세정 정밀건식세정기술은 CO2 입자를 이용하여 제품의 이물질이나 잔..
카테고리 없음
2024. 11. 11. 16:35